离子减薄仪
Ion Beam Milling System
仪器型号：EM RES
生产厂家：德国Leica公司
一、功能用途：
离子减薄仪适用于金属、陶瓷等耐离子束样品的减薄、清洁、抛光、切割。可进行金属、陶瓷等材料的TEM样品制备，SEM样品表面清洁、抛光。
二、主要技术指标：
1、离子枪电流：1~4.5 mA；
2、高压：0.8~10.0 kV；
3、SEM平面研磨样品台：最大Φ25mm×12mm；TEM样品台：Φ3mm。
三、工作原理：
氩气离子化后由高压加速，轰击样品表面，除去样品表面原子。离子轰击将磨损样品表面，从而得到减薄效果，同时使表面变得平滑。
四、送样要求：
可与实验室联系咨询。
