报告题目：等离子喷涂-物理气相沉积技术及其应用前景
报告人：周克崧院士，广东省科学院
邀请人：金属材料科学与工程系
报告时间：2018年10月26日（周五）上午10：00
报告地点：逸夫人文馆
欢迎广大师生参加！
材料科学与工程学院
2018年10月22日
报告摘要：
等离子喷涂-物理气相沉积（PS-PVD）是基于低压等离子喷涂发展起来的一种新型多功能涂层与薄膜制备技术。PS-PVD技术喷涂材料广泛包括陶瓷粉末、金属粉末、塑料粉末、溶液等，可实现气相沉积。PS-PVD在低压(～150Pa)喷涂时等离子射流长达2000mm、直径达400mm，喷涂面积大、沉积效率高、射流速度快，且可实现非视线沉积。通过不同工艺调控可获得不同结构的涂层或薄膜，如层状、柱状及混合结构。
报告介绍了PS-PVD技术的研究背景、技术原理、沉积特点和国内外研究进展；同时介绍了PS-PVD等离子体数值模拟，以及阐述了PS-PVD气相沉积机羽毛柱状YSZ热障涂层的形成过程；最后报告还介绍了PS-PVD技术在热障涂层、环境障涂层、透氧膜、固体氧化物燃料电池、硬质薄膜等方面的应用进展。
报告人简介：
周克崧，男，祖籍湖南长沙，汉族，1941年2月出生，中共党员，中国工程院院士，广东省科学院（广东省新材料研究所）教授级高级工程师，华南理工大学博士生导师、“双聘院士”。1965年毕业于清华大学，1971年至2015年12月在广州有色金属研究院工作，2016年1月至今在广东省科学院工作。1980-1982年在美国纽约州立大学从事材料表面技术研究工作。曾任新材料研究所所长、广州有色金属研究院院长。2009年当选中国工程院化工、冶金与材料工程学部院士。
