一、生产厂家：英国 赛默飞世尔

二、型号：EscaLab Xi⁺

三、工作原理

基于光电效应，采用X射线激发被测样品表面纳米尺度内的原子发射光电子，通过系统探测到所发射光电子的动能等信息，进而分析样品表面的元素种类及化合态的定性和定量分析的一种技术。

四、主要功能及技术指标

1. 常规测试：分析样品表面的元素种类、化学价态以及相对含量，最小能量分辨率优于0.43eV，束斑范围为20-900µm；

2. 离子刻蚀：可实现样品表面清洁、深度剖析，了解元素随三维深度分布的情况；

3. 成像分析：对样品表面不同元素或化学态给出面分布可实现快速成像，进行缺陷分析、表面污染检测，表面处理技术等，空间分辨率可达1μm；

4. 紫外光电子能谱（UPS）:实现样品的价带谱信息，研究样品的价电子和能带结构及功函数；

5. 离子散射谱（ISS）和反射电子能量损失谱装置 （REELS）；

6. Mg/Al 双阳极：Mg靶，Al靶相互切换，分析面积可达8mm；

7. 准原位气体反应池：可通入气体包括：氧气、氢气、氩气、氮气以及混合配气，最高温度为1200K。