反应性离子蚀刻设备
加工制备类
反应性离子蚀刻设备
发布时间:2025-06-25        浏览次数:10

反应性离子蚀刻设备

品牌:极智芯

型号:ACE150

负责人:文韬/刘硕

联系方式:17805420757

放置地点:五山校区122A房间

 

主要配置:

1. 工作台Ф160mm,内部集成射频阴极,适用于最大Φ150mm(6英寸)圆形样品刻蚀,尺寸向下兼容

2. 最小刻蚀线宽:≤200nm

3. 刻蚀深宽比:≥3:1

4. 两台射频电源,射频频率 13.56MHz,自动匹配

5. 耦合电极最大射频功率1000W,最小稳定功率≤50W;偏压电极最大射频功率600W,最小稳定功率≤30W

6. 极限真空度:≤5.0×10-4 Pa

7. 工作压力:0.1-133Pa

8. 质量流量控制器,流量范围0-200sccm,流量控制精度≤0.1%F.S.

基本用途:

该设备利用射频感应耦合放电原理,选用氟基等刻蚀气体,主要用于刻蚀Si、SiO2、Si3N4、SoI、DLC、TaN、Ta、W、Mo、高分子材料等,兼有PE去胶功能。


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