报告题目：巴西弗卢米嫩塞联邦大学高分辨电子显微实验室的创建，现状及发展规划

报 告 人：邢玉涛（巴西弗卢米嫩塞联邦大学教授）

报告时间：2025年3月18日（星期二）下午16：30—17：30

报告地点：材料科学与工程学院8号楼201会议室

主办单位：材料科学与工程学院

报告人简介：

邢玉涛，2002年于中国科学院金属研究所获得工学博士学位，2002至2004年在荷兰阿姆斯特丹大学范德瓦尔斯-塞曼研究所从事博士后科研工作，2004至2010年为巴西物理研究中心访问学者，2010年至今在巴西弗鲁米嫩塞联邦大学（UFF）任教，现为物理学院博士生导师、化学与工程研究生部主任、UFF高分辨电子显微实验室主任，是巴西CNPq科研津贴(1D级)和里约热内卢州科学家津贴获得者。

在UFF工作期间，从零开始创建了纳米材料制备实验室和高分辨电子显微实验室。科研方向主要集中在可持续发展的材料应用、催化剂、绿色能源等。承接了FAPERJ、FINEP和CNPQ等基金委的重大科研课题，承接了巴西石油公司（PETROBRAS）和TechnipFMC等公司的横向项目，科研经费超过700万美元。目前致力于和中海油、中石油、巴西石油公司共同创建以高分辨电子显微学为基础的高级材料分析测试及装备制造中心。在国际刊物上发表论文一百多篇，多次参与组织国际会议分会，以及UFF高分辨电子显微及纳米加工夏令营。

报告摘要：

本次报告主要汇报一下巴西弗卢米嫩塞联邦大学高分辨电子显微实验室的创建及发展规划。在此基础上以Ni-Bi超导双层膜界面的研究及对可控显微结构的锰氧化物作为超级电容电极材料的研究来介绍高分辨电子显微学在物理、材料、化学工程及其他学科的应用。金属镍和晶体铋在100 mK温度以上都不具有超导电性。而Ni-Bi双层膜则具有临界温度为4 K左右的超导电性。通过对Ni-Bi双层膜进行详细的显微结构及成分分析，证明此双层膜中的超导电性为Ni和Bi在样品制备过程中在界面处发生了反应，进而生成了两种具有超导电性的金属间化合物NiBi3和NiBi。锰氧化物纳米结构材料用于超级电容已被广泛并深入研究。而对于锰氧化物纳米材料的显微结构进行可控微调则一直是个挑战。我们使用脉冲激光在不同压力的氧气气氛中实现了锰氧化物显微结构的精确微调，讨论了显微结构对超级电容体积能量密度和质量能量密度的影响，实现了超级电容同时具有高体积能量密度和质量能量密度。