聚焦离子束场发射扫描电镜 生产厂家：美国赛默飞公司 型号：Helios 5 CX | 主要技术指标： 1．电子束加速电压：200V-30kV，电子束流强度：0.8pA-176nA； 最优分辨率0.6nm。着陆能量：20 eV -30 keV。 2．离子源加速电压：500V-30kV；束流强度：0.1pA -65nA；最优分辨率2.5nm，配置Pt、W、C三种气体源。 3．牛津UltimMax 100能谱仪：分辨率（MnKa）127 eV，分析元素范围：5B ～ 92U。 4．牛津Symmetry S3电子背散射衍射仪（EBSD）：高速低噪音CMOS相机，分辨率1244x1024，在线解析最高标定速度5700点/秒, 取向精度0.01度。
应用范围： 1. 可对材料进行微纳结构表征与加工，透射电镜样品定点制备。 2．该设备电子束成像性能优异，配备探测器齐全，可多种信号同时成像，可满足扫描电镜测试需求。 3. 能谱仪可用于微纳化学成分定性测试及半定量分析。 4. EBSD可用于晶体材料的微观结构、物相分析、织构分析、取向分析、应变分析、晶粒尺寸测量以及晶界、亚晶及孪晶性质的分析。 |
