离子研磨抛光仪 Leica EM TIC 3X

离子研磨抛光仪

型号：Leica EM TIC 3X

主要技术指标：
1. 离子枪类型：鞍式离子枪（3只）

2. 离子束能量：1 keV – 10 keV

3. 离子束密度：10 mA/cm²（单个离子枪）

4. 切割速率（边缘50μm处）：2.5 μm / min （100% Si:10 keV，3.5 mA）

5. 工作气体：氩气，纯度99.999%

6. 样品尺寸：表面抛光最大可容纳样品φ38mm，厚 度12mm

7. 横截面切割：样品尺寸小于10mm（长）×7mm（宽）×4mm（厚）

服务项目：

1、材料表面离子束抛光

2、材料横截面离子束切割