面向高功率效率、高稳定性 RGB OLED器件应用的高三重态能级 电子传输/空穴阻挡材料
通常,在OLED器件中,相对于电子注入与传输,空穴注入与传输占主导地位。因而,发展高三重态能级空穴阻挡材料具有重要意义。一方面,通过限制空穴传输,增加电子与空穴在发光层中复合几率;另一方面,高三重态能级有利于使用高效率磷光或TADF材料。
当前,应用于高效率OLED器件的空穴阻挡材料,已有大量报道,但对于器件稳定性研究较少。利用BAlq (aluminum(III)bis(2-methyl-8-quninolinato)(4-phenylphenolate)),可获得高稳定性绿光、红光磷光器件;不过,其较高的HOMO能级(−5.9 eV)以及较低的三重态能级(~2.18 eV),不利于获得高效率绿光磷光器件。
近期,在彭俊彪教授研究组合作支持下,华南理工大学发光材料与器件国家重点实验室朱旭辉教授课题组,在已取得成果“通用型有机小分子OPV阴极界面材料Phen-NaDPO”的基础上,[1]研发了“多功能”空穴阻挡材料Phen-m-PhDPO(图1),有望获得高功率效率、高稳定三基色pinOLED器件。
图1Phen-m-PhDPO及其在OLED中的应用示意图
Phen-m-PhDPO具备诸多优点:易合成提纯,高三重态能级(~2.67 eV),深HOMO(−6.39 eV)、LUMO(~−2.9 eV),以及高Tg(94 oC)。
初步结果:相比于常用空穴阻挡材料TPBi,在天蓝光荧光、绿光及红光磷光OLED器件中,Phen-m-PhDPO获得了更高的功率效率,分别为8.9、41、10.1 lm/W @ ca. 1000 cd m−2vs. 6.2、32.0、7.76 lm/W @ ca. 1000 cd m−2(TPBi) (表1)。在恒电流驱动下,天蓝光器件t80约为168 h @起始亮度1000 cd m−2;绿光器件t50约为40 h @起始亮度10000 cd m−2 (图2)。虽然红光器件,在起始亮度为5000 cd m−2,t50约为几个小时,但我们相信,通过选择合适的红光磷光材料以及优化器件结构,提高器件稳定性。
值得指出的是,高功率效率、高稳定性OLED器件,是基于Phen-m-PhDPO较低的电子迁移率(μe ≈ 6.34 × 10−8−1.58× 10−6cm2 V−1s−1 at E = 2−5 × 105 V cm−1),可能与其具有较深的LUMO以及Phen-m-PhDPO/n-doped电子注入层(Bphen:Cs2CO3)的界面相互作用有关。相比之下,TPBi具有较高的电子迁移率μe ≈ 9.1 × 10−7−1.2× 10−5cm2 V−1s−1 at E = 2−5 × 105 V cm−1。
此外,发光层主体材料对于器件稳定性至关重要。譬如采用Phen-m-PhDPO自身作为主体材料的绿光磷光器件,虽然获得高发光效率,但在起始亮度为10000 cd m−2时,t50不足两小时(图3),主要是由于在器件工作中,发光层内的空穴注入受限。
常用发光层主体材料CBP(4,4´-bis(carbazol-9-yl)biphenyl),在通常的磷光器件中,显示出良好的稳定性(Appl. Phys. Lett.2002, 81, 162.),但似乎不适合于pin OLED器件。台湾Nichem Fine Technology Co. Ltd.的产品GH054,作为绿光磷光主体材料,则表现出明显优势:39.7 vs. 20.5(CBP) lm W−1 @ ca. 1000 cd m−2;t50约为75.7 vs. 3.3 h(CBP) @ 5000 cd m−2 (图4)。为此,我们发展高性能电致发光层主体材料。[2]
本项工作发表在Adv. Electron. Mater. 2016, DOI:10.1002/aelm.201600101。[3]
表1天蓝光荧光、绿光及红光磷光器件特性
OLEDs | HBL | Vona) [V] | @ 100 cd m−2 | @ 1000 cd m−2 | |||||
LE [cd A−1] | PE [lm W−1] | V [V] | LE [cd A−1] | PE [lm W−1] | J [mA cm−2] | QE [%] | |||
Skyblue FL | Phen-m-PhDPO | 2.8 | 8.9 | 8.2 | 4 | 11.4 | 8.9 | 8.87 | 5.44 |
TPBi | 3.0 | 9.8 | 7.0 | 5.4 | 10.6 | 6.2 | 9.95 | 5.09 | |
Green PH | Phen-m-PhDPO | 2.8 | 54.6 | 50.2 | 4.0 | 52.1 | 41.0 | 2.19 | 15.0 |
TPBi | 3.2 | 54.9 | 39.2 | 5.2 | 52.9 | 32.0 | 1.57 | 15.25 | |
Red PH | Phen-m-PhDPO | 2.4 | 15.5 | 14.3 | 4.4 | 14.2 | 10.1 | 8.8 | 10.86 |
TPBi | 2.8 | 12.3 | 9.7 | 5.0 | 12.4 | 7.76 | 9.8 | 9.34 |
a) At a luminance of ~2−3 cd m−2
pin OLED器件结构,并与常用空穴阻挡材料TPBi比较:
(a) (b)
图2 OLED稳定性测试。(a)天蓝光荧光器件(ITO/MeO-TPD:F4-TCNQ(100nm,4%)/NPB(20nm)/MADN:DSA-Ph(30 nm,7%)/HBL(10nm)/Bphen:Cs2CO3(20 nm,50%)/Al(200 nm));(b)绿光磷光器件(ITO/MeO-TPD:F4-TCNQ(100nm,4%)/NPB(15nm)/TCTA(5nm)/Bepp2:Ir(ppy)3(30nm,9%)/HBL(10nm)/Bphen:Cs2CO3(20nm,50%)/Al(200 nm))。对于天蓝光荧光、绿光磷光器件,驱动电流分别为8.9、111.6 mA cm−2;对应初始亮度分别约为1000、10000 cdm−2
图3 发光层主体材料对于OLED器件稳定性的影响。OLED结构: ITO/MeO-TPD:F4-TCNQ(100 nm, 4%)/NPB(15 nm)/TCTA(5 nm)/Host:Ir(ppy)3(30 nm, 9%)/HBL(10nm)/Bphen:Cs2CO3(20 nm, 50%)/Al(200 nm). Host/HBL = Phen-m-PhDPO/Phen-m-PhDPO (Device I), TPBi/Phen-m-PhDPO (Device II) and TPBi/TPBi (Device III)
图4 CBP、GH054作为主体材料对于OLED器件稳定性的影响。OLED结构: ITO/MeO-TPD:F4-TCNQ(100 nm, 4%)/TAPC(20 nm)/Host:Ir(ppy)3(30 nm, 9%)/Phen-m-PhDPO(10nm)/Bphen:Cs2CO3(20 nm, 50%)/Al(200 nm). Host = CBP and GH054