多靶磁控溅射镀膜机（JCP-350）

负责人：王剑斌

放置地点：超净室

1. 设备简介

北京泰科诺科技有限公司生产的JCP-350系列的多靶磁控溅射镀膜机是一种经长期实践检验、性能优良的科研和生产两用型设备，可以生长Al、Ni、Mo、Ta、Cr等金属薄膜，以及通过反应性溅射加工ITO、ZnO薄膜；。该系列设备配2只以上的磁控靶，具有多靶分时/同时溅射功能，可制备多层膜和复合膜。该系列设备主要用来开发纳米级单层及多层的导电膜（含镍、钴磁性膜）、半导体膜以及绝缘膜等，广泛应用于高校、科研院所和企业的教学、科研。

2. 设备参数

• 射频电源2台（500VA）；直流电源1台 （1KVA）。

• 真空腔室尺寸：Φ350×H400mm，三个靶座。载片架可旋转。

• 本底真空度优于0×10-5Pa。

• 从常压抽到1×10-4Pa，时间不超过60分钟(1h内能到5×10-4Pa)

• 基片烘烤温度，室温～500℃，可调可控

• 均匀性误差：≤ ±（5～5.0）%