负责人：王剑斌
放置地点：超净室
SUPER SPECTROS 有机真空沉积系统是由美国科特·莱斯科公司设计制造的一套电脑全自动控制的薄膜沉积系统。主要应用于制备白光OLED照明器件。制备器件过程中包括基板清洗，材料蒸发，以及基板/掩模板传递等全部采用程序自动控制，具有精度高，时效快，气密性高等特点。整个设备具有惰性气体保护装置，可以在不暴露空气的情况下更换药品以及晶振探头，确保整个腔体的氛围不被破坏。
技术参数
镀膜工艺腔体：方箱型304不锈钢腔体；尺寸为600mm宽 x 600mm深 x 1000mm 高；
真空泵系统：前级泵采用抽速不低于35m3/hr的涡旋干泵，主泵采用抽速≥1500 L/S低温泵；系统的极限压强可达≤1×10-7mbar；
热阻蒸发源：配有四组标准热阻蒸发源，蒸发源电极水冷；配有相应气动挡板，配置两套不小于2kw蒸发电源及相应变压器，最大电流要求200A@10V，或者400A@5V；
有机蒸发源：十一组KJLC低温蒸发源，坩埚容量10cc，加热温度为50-600℃，可以实现恒温控制和恒沉积速率控制蒸发工艺，一组KJLC高温蒸发源，坩埚容量10cc，最高加热温度可达1500℃，可以实现恒温控制和恒沉积速率控制蒸发工艺；
样品台：顶部安装样品台，可放置200mmX200mm基片；
掩膜库：系统配有掩膜库装置，可放置四层掩膜放置架与一层基片放置架；
膜厚控制系统：配置八个标准晶振传感器分别安放于基底或者蒸发源附近，晶振探头蒸发电源功率闭环控制，用于控制电源参数和蒸发源挡板开关，膜厚控制程序集成在设备整体控制程序，沉积速率读数精度可达1A/S，并可以曲线显示沉积速率变化；
电脑程序控制系统：用户通过Windows 10系统平台操作运行设备，独立的实时控制系统（RTC）来实现设备操控
