离子研磨抛光仪 Leica EM TIC 3X
发布时间: 2018-03-26 浏览次数: 4282

离子研磨抛光仪

型号:Leica EM TIC 3X

主要技术指标
1. 离子枪类型:鞍式离子枪(3只)

2. 离子束能量:1 keV – 10 keV

3. 离子束密度:10 mA/cm2(单个离子枪)

4. 切割速率(边缘50μm处):2.5 μm / min 100% Si:10 keV3.5 mA

5. 工作气体:氩气,纯度99.999%

6. 样品尺寸:表面抛光最大可容纳样品φ38mm,厚 度12mm

7. 横截面切割:样品尺寸小于10mm(长)×7mm(宽)×4mm(厚)

服务项目:

1、材料表面离子束抛光

2、材料横截面离子束切割


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