X射线光电子能谱仪
X-ray Photoelectron Spectrometer
仪器型号：Escalab Xi+
生产厂家：美国赛默飞公司
一、功能用途：
X射线光电子能谱（XPS）技术是目前应用极其广泛的一种无损检测分析手段，可提供探测深度约3-10 nm的材料表面元素组成及化学态信息。不仅适用于材料开发应用研究、物理理论探讨等学术研究领域，XPS在半导体、镀膜材料及涂层工艺控制、多层结构纳米功能材料开发等工业领域也有广泛的应用。
二、主要技术指标：
1、强度指标( 光斑 > 500 um ) :
在0.60 eV FWHM分辨率下，强度高于1000 kCPS ；
在0.50 eV FWHM分辨率下，强度高于400 kCPS ；
2.荷电补偿 ( PET ) : 在0.82 eV FWHM分辨率下，强度高于60kCPS；
3.最佳能量分辨率: 优于0 .45 eV FWHM。
三、工作原理：
XPS原理基于光电效应，当一束特定能量的X射线照射到样品时，便可将原子中的部分内层电子激发出来，利用能量守恒方程通过已知的电子动能求得该电子对应的结合能。由于结合能是元素的指纹信息，通过结合能及其强度数据即可进行元素及其对应化学态的定性判定和半定量判定。
四、送样要求
1、样品质量要求在20mg以上；
2、新鲜制备并进行了干燥处理；
3、块体材料尺寸小于1cm*1cm，高度小于1.5mm。
