精密离子刻蚀与镀膜系统

发布时间:2024-01-17
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主要特点:

  • 在同一舱室内对样品进行抛光、刻蚀或镀膜。

  • 离子束能量 0.1~8 keV,快速地得到无损样品表面。

  • 有真空转移系统能将样品从仪器转移到SEM/FIB或手套箱中。

  • 数字光学成像,可利用 DigitalMicrograph® 软件存储和分析图像。

管理员:蒋老师,18516253967