关于举行南方科技大学韦齐和教授学术报告的通知
学术通知
关于举行南方科技大学韦齐和教授学术报告的通知
发布时间:2021-06-30        浏览次数:59

报告题目:分子取向的光刻技术及其应用

报告人:韦齐和教授(南方科技大学)

邀请人:Satoshi Aya教授

报告时间:2021年7月6日(周二)上午10点

报告地点:五山科技园2号楼324报告厅

欢迎广大师生踊跃参加!


分子科学与工程学院

华南软物质科学与技术高等研究院

2021年6月30日

报告摘要:

本报告将介绍一种新型的“光刻”技术:通过等离激元超掩模对光强和偏振方向的空间分布同时产生调制,并利用它对光敏液晶分子的空间取向进行“刻写”。 等离激元分子光刻方法分辨率高,产率高,已经带来很多独特的应用。报告将介绍在液晶平面光学元器件,可编程刺激重构材料,拓扑缺陷工程,活物质等方面的的应用。

报告人简介:

韦齐和,南方科技大学机械与能源工程系教授,德国洪堡学者和美国国家科学基金会CAREER奖的获得者,国际光学工程学会(SPIE)会士。2020年前任美国肯特州立大学物理系,液晶研究所终身正教授。韦齐和的研究涉猎统计物理,光学,力学,材料工程,传感器,仿生,先进制造等多学科交叉领域;在单通道扩散、纳米粒子等离激元及其耦合、低对称性粒子的布郎运动,活物质的控制,光控分子取向等一系列问题做出了原创性的贡献。现在的研究包括微/纳米制造,平面光学元器件,分子图案化,液晶/高分子,活物质,3D打印,仿生。韦齐和课题主页:https://faculty.sustech.edu.cn/weiqh/




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