报告题目：分子取向的光刻技术及其应用

报告人：韦齐和教授（南方科技大学）

邀请人：Satoshi Aya教授

报告时间：2021年7月6日（周二）上午10点

报告地点：五山科技园2号楼324报告厅

欢迎广大师生踊跃参加！

分子科学与工程学院

华南软物质科学与技术高等研究院

2021年6月30日

报告摘要：

本报告将介绍一种新型的“光刻”技术：通过等离激元超掩模对光强和偏振方向的空间分布同时产生调制，并利用它对光敏液晶分子的空间取向进行“刻写”。 等离激元分子光刻方法分辨率高，产率高，已经带来很多独特的应用。报告将介绍在液晶平面光学元器件，可编程刺激重构材料，拓扑缺陷工程，活物质等方面的的应用。

报告人简介：

韦齐和，南方科技大学机械与能源工程系教授，德国洪堡学者和美国国家科学基金会CAREER奖的获得者，国际光学工程学会（SPIE）会士。2020年前任美国肯特州立大学物理系，液晶研究所终身正教授。韦齐和的研究涉猎统计物理，光学，力学，材料工程，传感器，仿生，先进制造等多学科交叉领域；在单通道扩散、纳米粒子等离激元及其耦合、低对称性粒子的布郎运动，活物质的控制，光控分子取向等一系列问题做出了原创性的贡献。现在的研究包括微/纳米制造，平面光学元器件，分子图案化，液晶/高分子，活物质，3D打印，仿生。韦齐和课题主页：https://faculty.sustech.edu.cn/weiqh/